シリコン基板(Si基板)

シリコン基板

製品	研磨	面方位	伝導型	製造方法	セット枚数	価格	購入
10×10×0.5ｔ（mm）	両面光学研磨	＜100＞	N型	CZ法	5	¥5,000(税込 ¥5,500)
10×10×0.5ｔ（mm）	両面光学研磨	＜100＞	N型	CZ法	10	¥9,000(税込 ¥9,900)
10×10×0.5ｔ（mm）	両面光学研磨	＜100＞	N型	CZ法	50	¥35,000(税込 ¥38,500)
10×10×0.5ｔ（mm）	両面光学研磨	＜100＞	N型	CZ法	100	¥58,000 (税込 ¥63,800)

【注意事項】

※切断面に約20度程度の傾きがあります

※切断面に0.1ｍｍ以下のチッピングがあります

【特徴】

シリコン基板は半導体材料として優れた特性を持ち、

ダイオードなどの電子デバイスを作成するために

広く使用されています。

また、赤外（IR）用途でも利用可能な

リーズナブルな材料でもあり

1.2um から 7um までの透過率に優れます。

【使用例】

赤外光（IR）の透過用窓材、赤外光学デバイス材料

半導体デバイス（トランジスタ、ダイオード、集積回路など）の試作や研究

各種素子（センサーやMEMS、光素子など）の評価

電子の伝導性や電子状態、磁気効果などの研究