ゲルマニウム基板 (Ge基板)

ゲルマニウム基板 （Labo-Ge）

製品	研磨	面方位	セット枚数	価格	購入
10 x 10 x 1.0t （mm）	両面光学研磨	＜111＞	5	¥29,000 (税込 ¥31,900)
10 x 10 x 1.0t （mm）	両面光学研磨	＜111＞	10	¥49,000 (税込 ¥53,900)
10 x 10 x 1.0t （mm）	両面光学研磨	＜111＞	25	¥98,000 (税込 ¥107,800)

【注意事項】

※切断面に約10度程度の傾きがあります

※切断面に0.1ｍｍ以下のチッピングがあります

【特徴】

ゲルマニウム基板は赤外線透過材料として利用されています。

特に2 〜 15 μm で優れた透過性能を示します。

赤外線フィルターや光学ウィンドウ、

赤外線イメージングデバイスなどの光学素子に使用されるほか、

半導体デバイスや光デバイスの評価や研究にも使用されます。

【使用例】

赤外（IR）透過窓

赤外線サーモグラフィ、赤外線イメージングデバイス

半導体デバイスの試作や研究

各種素子（センサーやMEMS、光素子など）の評価

【物性データ】

　■熱膨張係数 1/℃(1/K) 　25　

　■熱伝導率(W/ m・K)　　　60.2　

　■融点 ( ℃)　　　　　　 947　

　■密度 (g/cm 3 )　　　　 5.35　

　■ヤング率 (GPa)　　　　 103　

　■ポアソン比　　　　　　 0.26　

　■せん断弾性率 (GPa)　　 41　

　■モース硬度　　　　　　 6