当社の大型、高密度なMgF2焼結体は、次世代がん治療法(BNCT)装置で生成した中性子を減速し、治療に最適なエネルギーにすることができる優れた中性子減速材です。
管路壁に形成した凸部が流体攪拌に効果的に作用するようにした、石英ガラス製の管路一体型インラインミキサーです。
MgF₂ moderator with an excellent neutron moderation performance for boron....
大興製作所では、長年培った石英素材の知識から、お客様の用途や条件に合わせて多様な材料で最適なものを選定いたします。
「Labo-USQ」は紫外〜赤外光まで高い透過率を誇り、高純度のため様々な実験用基板としてお使いいただけます。「Labo-Wafer」はコーティングなどのテスト....
各種成膜実験などで活用されるサファイア製基板です。
テンパックス(ホウケイ酸ガラス)のウェハーサイズ薄型ガラスです。
0.3t(mm)の薄さのため、シリコンとの陽極接合が可能です。
お好みの寸法指定で石英管をご提供いたします。
窒化アルミニウム(AlN)は、熱伝導性、放熱性、絶縁性、耐熱衝撃性に優れ、結晶成長実験用基板材料、パワーデバイス用基板材料や高集積化した半導体の放熱板などの用途....
SiC(シリコンカーバイド)はシリコン (Si) と炭素 (C) で構成される化合物半導体材料で、パワーLSI用、高輝度LED用など様々な用途で利用されます。大....
単結晶ダイヤモンド基板は、高い熱伝導性や電気絶縁性を持っており、高性能な電子デバイスの基板としての利用を期待される材料です。
その特性を生かしたハイパワーデバ....
人工水晶(低温型石英あるいはアルファ石英)基板は、
高い耐熱性、絶縁性、低熱膨張率、安定性を持った基板です。
光偏光変換用の波長板としての用途に加え
特に....
ゲルマニウム基板は赤外線透過材料として利用されています。
特に2 〜 15 μm で優れた透過性能を示します。
赤外線フィルターや光学ウィンドウ、赤外線イメ....
タンタル酸リチウム(Lithium tantalate)は、化学的にはLiTaO3という化学式を持つ化合物です。これは、リチウム(Li)とタンタル(Ta)の元素....
シリコン基板は半導体材料として優れた特性を持ち、
ダイオードなどの電子デバイスを作成するために広く使用されています。
また、赤外(IR)用途でも利用可能なリ....
【グラフェンの直接成膜】
グラフェンを新たな(転写プロセスを伴わない)方式で、大面積のガラス基板等に直接成膜する方式をご紹介しています。