石英ガラス、CaF2、結晶材料など素材と精密加工、設計(光学・メカ)、光学ユニット製作まで
株式会社大興製作所

分野別製品一覧(石英/素材加工製品 -> 材料・素材加工)

中性子減速材/中性子遮蔽材(中性子捕捉療法(BNCT)用)
中性子減速材/中性子遮蔽材(中性子捕捉療法(BNCT)用)

当社の大型、高密度なMgF2焼結体は、次世代がん治療法(BNCT)装置で生成した中性子を減速し、治療に最適なエネルギーにすることができる優れた中性子減速材です。

Neutron Moderator and Shielding Material for Boron Neutron Capture Therapy
Neutron Moderator and Shielding Material for Boron Neutron Capture Therapy

MgF2 moderator with an excellent neutron moderation performance for boron neutr....

ブロック(材料)
ブロック(材料)

大興製作所では、長年培った石英素材の知識から、お客様の用途や条件に合わせて多様な材料で最適なものを選定いたします。

実験用合成石英ガラス基板 Labo-USQ®
実験用合成石英ガラス基板 Labo-USQ®

「Labo-USQ」は紫外〜赤外光まで高い透過率を誇り、高純度のため様々な実験用基板としてお使いいただけます。「Labo-Wafer」はコーティングなどのテスト....

サファイア基板 Labo-Sapphire
サファイア基板 Labo-Sapphire

各種成膜実験などで活用されるサファイア製基板です。

ホウケイ酸ガラス基板 Labo-BSG
ホウケイ酸ガラス基板 Labo-BSG

テンパックス(ホウケイ酸ガラス)のウェハーサイズ薄型ガラスです。
0.3t(mm)の薄さのため、シリコンとの陽極接合が可能です。

オーダー石英管 Labo-Tube
オーダー石英管 Labo-Tube

お好みの寸法指定で石英管をご提供いたします。

実験用 窒化アルミニウム基板(AlN基板)
実験用 窒化アルミニウム基板(AlN基板)

窒化アルミニウム(AlN)は、熱伝導性、放熱性、絶縁性、耐熱衝撃性に優れ、結晶成長実験用基板材料、パワーデバイス用基板材料や高集積化した半導体の放熱板などの用途....

SiC基板(シリコンカーバイド基板)
SiC基板(シリコンカーバイド基板)

SiC(シリコンカーバイド)はシリコン (Si) と炭素 (C) で構成される化合物半導体材料で、パワーLSI用、高輝度LED用など様々な用途で利用されます。大....

単結晶CVDダイヤモンド基板
単結晶CVDダイヤモンド基板

単結晶ダイヤモンド基板は、高い熱伝導性や電気絶縁性を持っており、高性能な電子デバイスの基板としての利用を期待される材料です。
その特性を生かしたハイパワーデバ....

人工水晶基板
人工水晶基板

人工水晶(低温型石英あるいはアルファ石英)基板は、
高い耐熱性、絶縁性、低熱膨張率、安定性を持った基板です。
光偏光変換用の波長板としての用途に加え
特に....

ゲルマニウム基板 (Ge基板)
ゲルマニウム基板 (Ge基板)

ゲルマニウム基板は赤外線透過材料として利用されています。
特に2 〜 15 μm で優れた透過性能を示します。
赤外線フィルターや光学ウィンドウ、赤外線イメ....

タンタル酸リチウム基板(LiTaO3基板)
タンタル酸リチウム基板(LiTaO3基板)

タンタル酸リチウム(Lithium tantalate)は、化学的にはLiTaO3という化学式を持つ化合物です。これは、リチウム(Li)とタンタル(Ta)の元素....

シリコン基板(Si基板)
シリコン基板(Si基板)

シリコン基板は半導体材料として優れた特性を持ち、
ダイオードなどの電子デバイスを作成するために広く使用されています。
また、赤外(IR)用途でも利用可能なリ....

グラフェン基板
グラフェン基板

【グラフェンの直接成膜】
グラフェンを新たな(転写プロセスを伴わない)方式で、大面積のガラス基板等に直接成膜する方式をご紹介しています。